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痕量雜質(zhì)離子對高純水設(shè)備出水電導(dǎo)率的影響

時(shí)間:2014-04-15 作者:admin 點(diǎn)擊:428次

該文介紹并分析了痕量雜質(zhì)離子(Na+、NH4+Cl-)對高純水電導(dǎo)率的影響,結(jié)果表明溫度為25C且高純水中僅存在0~0.88 μg/L的Na+時(shí)(除了水電離的H+和OH-),水樣的電導(dǎo)率會(huì)低于0.054 8 μS/cm的理論值;當(dāng)Na+含量為0.44 μg/L時(shí),電導(dǎo)率達(dá)到*小值0.054 5μS/cm.可見高純水中存在痕量Na+對電導(dǎo)率的影響甚微.如果高純水中只存在有痕量NH4+或Cl-時(shí)(除了水電離的H+和OH-)并不會(huì)出現(xiàn)水樣電導(dǎo)率低于理論值的情況.

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